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1200℃開啟式真空/氣氛管式爐CVD系統(tǒng)(CVD-TF)

CVD-TF12P50/60/80/100? ?CVD-TF12T50/60/80/100? ?CVD-TF12P50/60/80/100S? ?CVD-TF12T50/60/80/100S
此款CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結(jié)構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)等實驗。 優(yōu)點 爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附制成,溫場均勻節(jié)能50%以上
自主研發(fā)的空氣導流隔熱技術保證箱內(nèi)各部件的使用壽命及恒溫效果
…… 安全性 過升報警、菜單鎖定、過升防止、復電延時
采用單向閥技術,使氣體流量在可控壓力范圍內(nèi)控制,保證安全
■ 產(chǎn)品特點

提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境,應用在半導體、納米技術、碳纖維等領域

使用溫度范圍? ?300~1200℃? ? ? ? ? ? ? 溫度控制 ? ?±1℃? ? ? ? ??管徑φ50φ60φ80φ100

■產(chǎn)品特點:

爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附制成,溫場均勻節(jié)能50%以上

自主研發(fā)的空氣導流隔熱技術保證箱內(nèi)各部件的使用壽命及恒溫效果

啟動電爐,排溫風機同時自動運行,試驗結(jié)束后,排溫風機將繼續(xù)運行,直至爐體溫度低于60℃,排溫風機自行停止,有效保護了爐體表面

爐門開啟自動斷電、超溫保護功能、漏電保護功能,以確保使用的安全性

電路采用連續(xù)加熱輸出方式,雙回路供電,強弱電單獨走線提高了系統(tǒng)的穩(wěn)定性

加熱模塊采用直流信號調(diào)節(jié)輸出功率,避免了感應電對控制信號的干擾

操作按鍵選用低壓金屬按鈕,自帶狀態(tài)指示燈,操作安全直觀

上下爐體采用航空插頭連接方式,連接安全方便

氣路總成采用食品級316不銹鋼制成,具有耐蝕性,耐大氣腐蝕性和耐高溫強度好,無磁性

采用數(shù)顯流量顯示儀,配合質(zhì)量流量控制器,采集數(shù)據(jù)并控制流量。重復性好,相應速度快,穩(wěn)定等特點。(氣體質(zhì)量流量控制系統(tǒng))

自動控制與手動控制切換功能,自動控制模式能通過設定值自動開啟/關閉真空泵,使容器內(nèi)保持在一定的真空壓力范圍內(nèi)。手動控制模式使用用戶通過真空泵開啟/關閉按鈕直接操作真空泵。以滿足不同實驗的需要。(中真空控制系統(tǒng))

電磁閥緩啟動技術,使電磁閥在真空泵開啟10秒鐘后打開,使爐管內(nèi)系統(tǒng)壓力保持準確,也保證了廢氣不會返回到爐管系統(tǒng)影響實驗效果(中真空控制系統(tǒng))


■安全性:

過升報警、菜單鎖定、過升防止、復電延時。

采用單向閥技術,使氣體流量在可控壓力范圍內(nèi)控制,保證安全。

采用混氣罐裝置,使氣體可以在充分混合后導入工作室內(nèi),確保不會泄露。


■ 技術參數(shù)

1200cvd-TF參數(shù).jpg

上一個:氣體流量控制系統(tǒng)(ZLXT、ZKXT、FZXT)下一個:1400℃真空/氣氛管式爐CVD系統(tǒng)(CVD-TF)
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